现如今，次元空间的体积，增大了十倍，达到了一百万立方米，表现出来，就是面积增加了五倍，高度增加了两倍。原来的芯片生产线和各种物品，只占据了空间正中不大一片位置，四周是一片空旷。而复制出来的DUV光刻机，就出现在了新出现的空地上。

　　乔瑞达操控意识体，在全新的次元空间内逛了一圈，心里规划着新出现的这些空地，要如何利用。要不弄一套十年后的芯片生产线出来，就在别人还在为28nm芯片的量产而庆贺欢呼的时候，自己这里已经悄悄的完成了5NM芯片的流片测试，这种场景，想想就刺激。

　　十分钟之后，乔瑞达的意识体终于来到了这台崭新的EUV光刻机的面前，伸出右手，触摸着光刻机冰冷的金属外壳，和半透明的玻璃观察窗，他激动的心情，久久难以平息。

　　按照乔瑞达前世了解到的信息，早在2006年的时候，阿斯麦就推出了第一代EUV（极紫外光刻机）演示机。在2010年时，ASML推出了第二代EUV光刻机NXE:3100。2013年，ASML推出了量产型号NEX:3300B，而2015年又推出了NXE3350B，但这早期的产品，主要是各大晶圆、研究中心用来测试等，并没有用于芯片的量产。直到2017年，ASML有了真正的大进步，推出了TWINSCANNXE:3400B，这一代EUV光刻机，能够支持7纳米和5纳米节点的EUV量产，于是引爆了ASML市场。

　　受到某些共所周知的限制，以上这些EUV光刻设备中的任何一个型号，任何一台，都没有出现在华夏大陆，甚至某些高端的DUV光刻机的进口都会受到限制。这也就造成了国内的芯片生产能力，一直严重落后于世界主流水平，高端芯片，一直依赖于进口，经常受制于人。

　　但是现在，在12年的当下，一台国内芯片人极度渴望，价值上亿美刀的EUV光刻机，就那么随意的摆在乔瑞达的面前，这让他如何不激动，如何不兴奋。乔瑞达的意识体，围着这台EUV光刻机转了一圈又一圈，设备上每一个显示面板，每一个按钮都被他看了一个遍。

　　半个小时后，乔瑞达激动的心情终于平复下来。毕竟只是一台EUV光刻机，不接电，没有与之配套的其它芯片生产设备，什么也做不了。

　　“这么好的一台光刻机，不用来生产芯片可惜了，要不利用浏览器，搞一套十年后的5nm芯片生产线出来。”

　　想到就做，乔瑞达立马退出次元空间，回到系统界面，然后打开浏览器，在十年后的网络上搜索“5NM芯片生产线”相关的信息。在国内网络上，只有一些只言片语的介绍，相关的图

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