赵军的演讲很短,主题也非常浅显——他为什么来。
但却让所有人都明白了,为什么半导体行业同盟这么顺利的就搞成了,这么顺利的就拧成了一股绳。
赵军是因为此而来,那么其他人也都差不多。
先不论其他,仅仅是赵军口中,仅仅是有关晶圆产线的这些信息就足够令人咋舌——
中芯国际所有产线的工艺都上升了一个层次,良率和产能都有所提升。
尤其是十倍极限光刻第一次在大众面前得到确认和证实。
这可是一件了不得的大事情。
“十倍分辨率光刻?那岂不是28nm的光刻机,直接就能实现3-nm级别的芯片了?那还要啥的EUV啊!”
正在看直播的人们,先是经历了短暂的寂静,而后瞬间欢腾起来。就仿若一枚深水炸弹从水面缓缓沉入水底,不多时爆炸开来。
“咚”的一声,水面上便如天女散花——全网络,什么这热榜那热搜的都不用再说,这个时刻#十倍分辨率光刻#几乎成了全网唯一的话题。
这几年,科技竞争的加剧,阿美瑞肯对国内诸多科技企业一次又一次的限制,让原本对科技、对芯片制造并不关注的人瞬时明白了科技发展的意义,瞬时明白了芯片是什么,是怎么制造的等等等等。
科技竞争的进程,给所有人上了一堂半导体的科普课程。
尤其是去年Mate60的突然发售,国产先进工艺芯片第一次在世人面前亮相,更是激发了别样的热潮。
不说业内人士和爱好者,就算什么都不懂的普通人,也都知道制造芯片的关键是光刻机了,甚至能头头是道的说一堆诸如DUV、EUV双重曝光四曝光等一批专业名词了。
而今天,赵军的一番话,#十倍分辨率光刻#一出来,恰逢其会,瞬间引起了轰动与聚变——了解了芯片制造是什么之后的人们更加能够体会其中的强大。
有人瞬间就意识到,这不一下子就赶上世界最顶尖的工艺了吗?2~3nm!
“当然没有这么简单,宏图微电子的产线,实现极限十倍光刻是没错,但极限并不容易达到的。
“出于良率和效率的考量,那边的产线更多的还是在生产40nm的芯片,少部分量产28nm。至于极限22nm,只是理论数据能达到。
“还有就是,工艺越先进,提升越困难,指望28nm级别的光刻机实现2.8nm的工艺是不可能的。顶多,能够达到EUV5nm的水准。”
此刻,有关产线的相关消息已经放在了明面上,过了保密期限,只要不涉及技术泄密,可以畅所欲言了。
憋了那么久的知情人士也一下子纷纷冒了出来:
“那也已经不得了啊!台积电所谓的5nm4nm3nm的,实际也达不到,只是一个名字而已。
“更
请收藏:https://m.pingguo9.com
(温馨提示:请关闭畅读或阅读模式,否则内容无法正常显示)